Prosés gas husus dipaké dina prosés manufaktur TFT-LCD prosés déposisi CVD: silane (S1H4), amonia (NH3), phosphorne (pH3), seuri (N2O), NF3, jsb, jeung sajaba ti prosés prosés High purity. hidrogén jeung nitrogén purity tinggi jeung gas badag lianna.Gas argon dianggo dina prosés sputtering, sareng gas pilem sputtering mangrupikeun bahan utama sputtering.Kahiji, film ngabentuk gas teu bisa kimia diréaksikeun jeung udagan, sarta gas paling merenah nyaéta gas mulya.A jumlah badag gas husus ogé bakal dipaké dina prosés etching, sarta gas husus éléktronik téh lolobana kaduruk tur ngabeledug, sarta gas kacida toksik, jadi sarat pikeun jalur gas anu luhur.Téhnologi Wfly ngahususkeun dina rarancang sareng pamasangan sistem transportasi kemurnian ultra luhur.
Gas husus utamana dipaké dina industri LCD pikeun film ngabentuk jeung prosés drying.Pintonan kristal cair ngagaduhan rupa-rupa klasifikasi, dimana TFT-LCD gancang, kualitas pencitraan luhur, sareng biayana laun-laun dikirangan, sareng téknologi LCD anu paling seueur dianggo ayeuna dianggo.Prosés manufaktur panel TFT-LCD bisa dibagi kana tilu fase utama: Asép Sunandar Sunarya hareup, prosés tinju sedeng-berorientasi (CELL), sarta prosés assembly modul pos-tahap.Gas husus éléktronik utamana dilarapkeun kana formasi pilem sarta tahap drying tina prosés Asép Sunandar Sunarya saméméhna, sarta pilem non-logam SiNX sarta gerbang, sumber, solokan jeung ITO disimpen masing-masing, sarta pilem logam kayaning Gerbang a, sumber, drainandITO.
nitrogén / oksigén / Argon stainless steel 316 Semi-otomatis Changeover Gas Conrol Panel
waktos pos: Jan-13-2022